Hệ thống phổ khối nguyên tử plasma (ICP-MS) ghép nối với bộ bắn phá mẫu địa chất bằng laser.

Giá bán: Liên hệ

Hãng sản xuất:
Perkin Elmer - Mỹ
Nước sản xuất:
MỸ

Danh mục: Perkin Elmer - Mỹ, Quang phổ Từ khóa: GHÉP NỐI VỚI BỘ BẮN PHÁ MẪU ĐỊA CHẤT BẰNG LASER, HỆ THỐNG PHỔ KHỐI NGUYÊN TỬ PLASMA, ICP-MS, ICP-OES, MÁY ICP/MS, PHÂN TÍCH ICP, PHÂN TÍCH KIM LOẠI, PHÂN TÍCH NGUYÊN TỐ, PLASMA, QUANG PHỔ PHÁT XẠ PLASMA, THIẾT BỊ PHỔ KHỐI ICP-MS

Mô tả
Đánh giá (0)

Hệ thống phổ khối nguyên tử plasma (ICP-MS) ghép nối với bộ bắn phá mẫu địa chất bằng laser.

Hãng sản xuất: Hoa kỳ

Bao gồm :

Hãng sản xuất: P (Hoa Kỳ)

Thông tin chung:

được thiết kế với một buồng phản ứng động học Universal Cell một kênh khí. Hệ thống này phù hợp cho các ứng dụng chung cũng như phân tích đối tượng có nguồn gốc sinh học. sử dụng một loại khí trơ cho chế độ va chạm hoặc một loại khí hoạt động cho chế độ phản ứng.

Đặc tính nổi bật:

– Cho độ ổn định, tính linh hoạt và hiệu năng cao chưa từng có đối với một thiết bị ICP-MS.

– Với công nghệ buồng động học phản ứng (Universal Cell Technology –UCT), cho phép thiết bị chạy ở 3 chế độ (Chuẩn, Va chạm, Phản ứng) phụ thuộc yêu cầu mức độ loại nhiễu và mức giới hạn phát hiện, giờ đây người sử dụng có thể lựa chọn kỹ thuật phù hợp nhất cho từng ứng dụng hay từng mẫu cụ thể.

– Tín hiệu được giữ ổn định hàng giờ nhờ sử dụng Giao Diện 3 Cone và Bộ Lái chùm Ion Tứ Cực

– Được thiết kế để loại bỏ gần như toàn bộ các hạt không bị ion hóa và ngăn chúng xâm nhập vào buồng động học phản ứng Universal Cell, giúp giữ cho thiết bị luôn sạch sẽ, giảm sự trôi tín hiệu và loại bỏ hoàn toàn việc phải làm vệ sinh buồng.

– Được thiết kể để thực hiện những phân tích phức tạp nhưng phần mềm điều khiển và xử lý dữ liệu của lại cực kỳ dễ sử dụng. Tất cả các bước từ lúc bật máy cho đến lúc in ra báo cáo đều được thông qua một giao diện dạng “kéo thả” rất đơn giản. Phần mềm của hỗ trợ đầy đủ và trực quan, vì vậy, một người sử dụng chưa có kinh nghiệm cũng có thể vận hành để cho ra kết quả chính xác, đáng tin cậy trong thời gian ngắn.

– Có thể dễ dàng tích hợp với một thiết bị sắc ký lỏng (LC), sắc ký khí (GC) hoặc sắc ký ion (IC) để tạo ra một giải pháp phân tách và xác định kim loại hoàn hảo. Không giống như một số hệ thống khác yêu cầu người sử dụng phải sử dụng 2 phần mềm riêng biệt để điều khiển riêng rẽ hệ thống ICP-MS và hệ thống sắc ký, phần mềm Chromera đã tích hợp để có thể quản lý, điều khiển cả 2 hệ thống chỉ trên 1 giao diện duy nhất.

– Thiết kế dạng để bàn và không có các kết nối đằng sau giúp tiết kiệm không gian phòng thí nghiệm và cho phép đặt sát tường.

Thông số kỹ thuật:

– Giới hạn phát hiện:

9Be < 1 ng/L (ppt)

59Co < 1 ng/L (ppt)

115In < 0.5 ng/L (ppt)

238U < 0.5 ng/L (ppt)

– Độ nhạy:

9Be > 3 Mcps/mg/L

24Mg > 20 Mcps/mg/L

115In > 50 Mcps/mg/L

238U > 40 Mcps/mg/L

– Tỷ lệ với các mảnh oxit và các mảnh điện tích kép:

CeO+/Ce+ < 0.025

Ce++/Ce+ < 0.03

(Được đo mà không sử dụng thiết bị đesolvat hóa như buồng phun sương làm lạnh và dưới các điều kiện hoạt động để đạt được độ nhạy và giới hạn phát hiện theo yêu cầu)

– Tín hiệu nền: Tại số khối 220 < 1 cps

– Độ chính xác ngắn hạn: < 3% RSD (Được định nghĩa là độ lệch chuẩn tương đối (RSD) của một dung dịch đa nguyên tố có nồng độ 1μg/L, đo các nguyên tố 24Mg, 63Cu, 114Cd, 208Pb, thời gian tích phân 3 giây, không sử dụng nội chuẩn)

– Độ ổn định dài hạn: < 4% RSD trong 4 giờ (Là độ ổn định tương đối sau 1 giờ bật máy. Được xác định bằng độ lệch chuẩn tương đối của tín hiệu các nguyên tố 24Mg, 63Cu, 114Cd, 208Pb trong một dung dịch đa nguyên tố có nồng độ 1μg/L, cứ 10 phút đo 1 lần, không sử dụng nội chuẩn.

– Độ chính xác tỷ lệ đồng vị: < 0.08% RSD (Được xác định bằng tỷ lệ giữa 2 đồng vị 107Ag/109Ag trong một dung dịch 25μg/L, thu được khi chuyển vị trí píc đơn)

– Độ ổn định hiệu chuẩn khối lượng: < 0.05 amu sau 8 giờ vận hành liên tục (Được đo bằng cách sử dụng một dung dịch đa nguyên tố có nồng độ 1μg/L chứa các nguyên tố 7Li, 24Mg, 115In, 238U. Xác định bằng độ trôi tín hiệu pic có cường độ cao nhất của mỗi nguyên tố, không sử dụng các thuật toán đa điểm và thuật toán tìm pic)

– Tốc độ chuyển píc tứ cực: 1.6M amu/giây (Được định nghĩa là tốc độ lớn nhất mà tại đó bộ tứ cực có thể làm thay đổi từ khối lượng tối thiểu đến khối lượng tối đa mà không làm ảnh hưởng đến độ chính xác của kết quả phân tích).

– Tốc độ quét tứ cực: 5000 amu/giây (Được xác định bằng tốc độ lớn nhất mà tại đó bộ tứ cực có thể quét trong khi dữ liệu phổ liên tục tại tất cả các mức khối lượng từ nhỏ nhất đến lớn nhất (1 – 285 amu))

– Độ nhạy phân biệt số khối: Khi đo 23Na: tốt hơn 1.0×10-6 ở phía số khối thấp hơn và tốt hơn 1.0×10-7 ở phía số khối cao hơn (Được xác định bằng tỷ lệ giữa cường độ pic cao nhất của một đồng vị đã cho, so với cường độ pic cao nhất của 1 đồng vị có số khối nhỏ hơn 1 amu và 1 đồng vị có số khối lớn hơn 1 amu)

– Dải tuyến tính detector: Hệ thống detector SimulScan hoạt động từ dưới 0.1 cps tới hơn 109 cps, tức là hơn 10 bậc khuếch đại của dải động học tuyến tính trong 1 lần quét đơn liên tục.

Tốc độ thu nhận dữ liệu tức thời: > 100,000 điểm dữ liệu/giây

Bộ phận dẫn mẫu

– Khu vực dẫn mẫu được thiết kế mở và rộng, giúp dễ dàng thao tác bằng cả tay trái và tay phải

– Tiết kiện chi phí do giảm lượng tiêu thụ mẫu và chất thải

– Thiết kế tháp plasma kiểu modul, dễ dàng tháo lắp

– Vị trí torch được tối ưu hóa bằng máy tính theo cả 3 trục X, Y, Z trong phạm vi +/- 6mm với độ lặp lại 0,05mm

– Injector làm bằng thạch anh, có đường kính trong 2.0mm, được thiết kế đặc biệt nhằm hỗ trợ quá trình phun sương, giúp hạn chế việc tiếp xúc với các vật liệu có thể gây nhiễm tới mẫu.

– Buồng phun sương loại xoáy dòng, làm bằng thủy tinh, được tối ưu hóa đặc tính rửa mẫu.

– Đầu phun sương loại đồng tâm, làm bằng thủy tinh, cho độ nhạy và hiệu năng vượt trội với các phép phân tích hàm lượng siêu vết.

Bơm nhu động 3 kênh, được điều khiển hoàn toàn bằng máy tính, độ chính xác cao, có thể thay đổi tốc độ trong khoảng 0-100 vòng/phút

Bộ phận phát plasma cao tần

– Bộ phát cao tần của NexION 350 không có phần di động, được thiết kế mạnh mẽ và đáng tin cậy.

– Tần số: 40MHz

– Công suất: 500W – 1600W, bước tăng 1W

– Cuộn cảm được làm mát bởi khí argon

– Tính năng True Power Control giúp duy trì năng lượng plasma luôn ổn định, ngay cả khi thay đổi nền mẫu.

– Giao diện PlasmaLok™ nhằm bảo vệ các cone (interface cone) khỏi cung hồ quang của ngọn plasma (là nguyên nhân dẫn đến hiện tượng đọng mẫu trên cone và tạo ra tín hiệu nền cao). PlasmaLok giúp hạn chế việc đọng mẫu trên cone và đảm bảo độ chính xác cao và độ ổn định lâu của tín hiệu. Điều này cũng giảm bớt việc phải làm sạch và bảo dưỡng các cone thường xuyên như với các hệ thống khác.

PlasmaLok cũng giúp ổn định phân bố năng lượng ion, nhờ đó duy trì độ phân giải phổ và đơn giản hóa việc điều chỉnh hệ quang-ion, ngay cả khi nền mẫu có sự thay đổi lớn, ví dụ như từ dòng mẫu ướt (với chế độ phun sương bình thường) thành dòng mẫu khô (dùng phá mẫu laze) hoặc từ dạng mẫu dung dịch nước thành dạng mẫu hữu cơ.

Bộ phận phân tích

– Giao Diện 3 Côn (Triple Cone Interface) tạo ra dòng ion hội tụ mức độ cao, giúp hạn chế việc phải bảo dưỡng và làm sạch.

– Van cách ly chân không tự động được đặt ngay sau cone thứ 3 (hyper skimmer cone) nhằm cách ly vùng chân không cao của bộ lọc khối với vùng áp suất bình thường bên ngoài nếu trong trường hợp nguồn điện, nước, argon, giao diệp bị trục trặc hoặc sai lỗi. Van này cũng giúp ngăn hiện tượng thông khí vào vùng chân không khi cần tháo giao diện 3 cone (interface cone) để bảo dưỡng, làm sạch.

– Bộ lái chùm Ion Tứ Cực (Quadrupole Ion Deflector) – lái dòng ion một góc 90o, hội tụ vào buồng phản ứng (Universal Cell). Chỉ cho phép các ion có số khối quan tâm đi vào buồng Universal Cell, hạn chế tối đa các hạt không mang điện hoặc các hạt đa nguyên tố (polyatomic), tăng cường độ nhạy trong khi vẫn giữ sạch buồng. Đây là thiết bị ICP-MS duy nhất trên thị trường có buồng Universal Cell không cần làm sạch hoặc thay thế.

– Công nghệ UCT: có 3 chế độ Chuẩn, Va chạm và Phản ứng. Việc chuyển giữa các chế độ nhanh chóng và dễ dàng, giúp người sử dụng có thể lựa chọn chế độ tốt nhất.

+ Chế độ chuẩn cho các ứng dụng thông thường. Khí trong buồng được tắt, do đó không làm giảm độ nhạy phân tích. Kỹ thuật tách nhiễu thông qua công thức hiệu chỉnh.

+ Chế độ va chạm cho việc tách các nhiễu chưa biết, khí không phản ứng như heli sẽ được dẫn vào buồng phản ứng để va chạm với các ion nhiễu có kích thước lớn hơn, làm giảm động năng của chúng. Chế độ va chạm giúp loại bỏ nhiều nhiễu cho giới hạn phát hiện tốt hơn chế độ chuẩn đối với một số nguyên tố. Kỹ thuật loại nhiễu này thông qua hiệu ứng là lọc động năng (KED)

+ Chế độ phản ứng sử dụng cho các ứng dụng cần hiệu năng tốt nhất và mức độ loại nhiễu cao. Một loại khí có tính hoạt động cao như NH3 được dẫn và buồng phản ứng để tạo ra các phản ứng hóa học. Bất kỳ nhiễu mới nào sinh ra đều được loại bỏ bởi tứ cực quét. Kỹ thuật loại nhiễu này thông qua buồng động học phản ứng với tứ cực quét.

– Bộ lọc khối kiểu tứ cực làm bằng gốm mạ vàng, có hệ số giãn nở nhiệt thấp nhất, đảm bảo tạo ra một kết cấu cứng trên toàn thanh tứ cực nhằm đạt được độ ổn định chuẩn khối cao.

– Tứ cực được điều chỉnh bởi một nguồn cao tần 2.5MHz, được thiết kế đặc biệt để tạo ra điện trường dạng hyperbol hoàn hảo, cho độ phân giải và hiệu suất truyền ion tối ưu.

– Bộ lọc khối có tốc độ quét nhanh nhất lên tới hơn 5000 amu/giây – cho tốc độ nhảy peak nhanh nhất và dải khối phân tích cao nhất có thể.

Hệ thống chân không 4 cấp sử dụng một bơm tubo phân tử có 3 đường vào. Khả năng bơm hút chân không trong một khoảng thời gian ngắn hơn so với các hệ thống khác, cho phép người sử dụng quay lại để phân tích mẫu nhanh hơn từ 2-3 lần so với các hệ thống khác.

Bộ phận ghi nhận tín hiệu

Detector với 2 chế độ đo tín hiệu đồng thời (kỹ thuật analog và kỹ thuật số), cho dải động học lên tới 109, đo được đồng thời cả chất có nồng độ thấp và chất có nồng độ cao.

Post Views: 798